Wat sinn e puer gemeinsame benotzt fir PMP Isolatiounspabeier an der Elektronikindustrie?

PMP Isluge Pabeiergëtt bannent der Entloossung wéinst hirer exzellenter Industrie benotzt. Si gëtt sech ënner héichwäertege Polopspopleme Material gemaach, wat dann ufänken, datt Frist, an Chemmen huet. De PMM INmpoulpet kënnt vu verschiddene Garantie duer, och transecht, a Schwéier, da gefeiert et fir verschidde Updipatiounen.

Wat sinn déi gemeinsam Notzung vum PMP Isolatiounspabeier?

De Pomp Insanéierung Pabeier gëtt virun der Sue benotzt, déi an der Elventer Industrie benotzt ginn, och:

1. Zauberer tëscht de Schichten vun engem gedréckten Circuit Board (PCB): PMP Isculation Pabeier gëtt benotzt fir d'Libellesch Schichten vun engem PCB ze verdeeden.

2. Insiséierung vun Transfators a Motors: PMP INMPuléierungspabeier gëtt benotzt fir d'Koppelen an Transformatelen ze verdeelen fir elektroséierend elektroséieren an der Offizéier an dem Baudicher ze vermeiden.

3. Isolatioun am Kapazitore: PMM INMP INSPAACHT GEMAACHT GEMAACHT A PAINTS PAPTEN AN ELECT ELECTALT BEZUELT.

Wat sinn d'Virdeeler vum PMP Isolatiounspabeier?

1. Exzellent elektresch Isoléierungsverdeelungen: PMP Isolatiounsbop bitt zouverlässeg elektresch Inselulatioun, och bei héijen Temperaturen an a stäerkt Ëmbau.

2. Chemesch Resistenz: PMP INCLulatioun Pabeier ass resistent fir Chemikalien ze maachen, et passend fir ze benotzen an der Harsh Chemikmierung wou aner Insele géife versoen.

3 Mat Wolleféierung Resistenz: PMP Isgright Pabeier ass fälschte resistent, maacht et gëeegent fir ze benotzen a Fändel Ëmgeroffer, hir Inspurg fir hir Insplace ze loossen.

Wou kann ech PMP Isolatiounspabeier kafen?

PMP Isolation Pabeier ka vu verschiddene Liwweranten an der Elektronikindustrie kaaft ginn. Ningbo hackescheru nid international Co., LTD. ass eng Feualiséierungsgrupp, déi Propraktiounsprodukter bitt Pompelluléierungsplack oder aner elektresch Ustrengungsmethëllef bedeelegt. Kontaktéiert hir Marketing Team beiMarketinging4@nide-GRoup.comméi léieren.

An onsem, pMmp Infocatioun vum elektresche Insolteur gëtt vill an der elektronesch Industrie benotzt. Seng militäresch Insgesernatioun hutt se als Origin vu Appriatiounen an der Infienz zu Kontrollräich gemaach, an Zuechtungen anzeruechten an Zimoren. Seng chemesch a feuchtend Resistenz mécht et gëeegent fir an haart Ëmfeld ze benotzen. Wann Dir diskrionneren epizal Liewensufulatioun, betruecht de PMM ustrengen Pabeier.

Wëssenschaftsgefill Fuerschungsbiller

1. L. Zhang, et al. 2020er. IEEE Transaktiounen op Dieselektriken an elektresch Isolatioun 27 (3): 801-808.

2. S. LI, et al. 2019. "Effekt vun der Uewerfläch entlaaschtung op der dightctresch Eegeschafte vun der PMP Isolatiounspabeier." Journal vun elektresch Ingenieur an Technologie 14 (4): 1440-1446.

3. Y. Zhang, et al. 2018. "Virbereedung an Charakteriséierung vun der PMP Isolatiounspabeier geännert duerch Graphe Oxid." Polymer Composititéiert 41 (S1): 244-248.

4. T. liu, et al. 2017. "Verglach vun der thermescher Alters Performance vum Nomex an PMP Isolatiounspabeier an Ueleg-immers Transformers." Transaktioune vu China Elektrostnnical Gesellschaft 32 (12): 267-273.

5. J. Wang, et al. 2016. "Uewerfläch Ännerung vun der PMP Isolatioun Pabeier mat atmosphäreschen Drock Plasma Jet." Journal vun der Adhäsiounswëssenschaft an Technologie 30 (3): 277-285.

6. W. l. li, et al. 2015. "Afloss vun der Mikrostruktur vum Elektreschen a mechanesche Eegeschafte vun der PMP Isolatiounspabeier." Journal vu Materialienwëssenschaften: Materialien an Elektronik 26 (10): 8052-8059.

7. X. Chen, et al. 2014. "Effekt vun der Hëtztbehandlung op den Eegeschafte vu PMP Isolatiounspabeier." Journal vu Wuhan Universitéit vun der Technologie 29 (4): 863-866.

8. Y. Gao, et al. 2013. "Studie op Korrosiounsverhalen vu Kupfer am PMP Isolation Pabeier - gesättegt Ca (Oh) 2 Léisung." Modern applizéiert Science 7 (7): 93-99.

9. Y. Wang, et al. 2012. "Elektresch Eegeschafte vu PMP Isolatioun Pabeier ënner DC Elektreschfeld an Temperatur." Journal vun elektronesche Materialien 41 (5): 1095-1099.

10. Z. li, et al. 2011. 'Preparatioun vu PMmp Inside Pabeier geännert duerch Sio2 a seng Eegeschaften. " Polymer Ingenieur a Science 51 (5): 986-993.